삼성전자가 2030년까지 메모리 반도체 뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서도 세계 1등 달성을 위한 '반도체 비전 2030' 계획을 24일 발표했다. 삼성전자는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충에 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용할 방침이다.

회사는 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자한다. 삼성전자 관계자는 "R&D 투자금액이 73조원 규모에 달해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대되며, 생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다"고 설명했다.

향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.

또 기술경쟁력 강화를 위해서 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만5000명을 채용할 계획이다. 삼성전자 관계자는 "이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다"고 말했다.

회사는 또한 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 국내 팹리스업체(반도체 설계 전문업체), 디자인하우스 (반도체설계서비스기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력을 강화할 방침이다.

국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스 IP(설계자산), 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 삼성전자가 개발한 IP를 호혜적으로 지원한다. 또 보다 효과적으로 제품을 개발할 수 있도록 삼성전자가 개발한 설계·불량 분석 툴(Tool) 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다.

소품종 대량생산 체제인 메모리 반도체와 달리 다품종 소량생산이 특징인 시스템 반도체 분야의 국내 중소 팹리스업체는 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는데 어려움이 있었다.

삼성전자는 이러한 어려움을 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해, 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 계획이다. 또한 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer)프로그램을 공정당 년 2~3회로 확대 운영한다.

이러한 선제적 투자와 국내 중소업체와의 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체산업 발전에 앞장선다는 계획이다.